ポーラスセラミックチャック

ポーラスセラミックチャック

代表的な例は、55μm(標準)、120μm、10μm、2μmです。表面がざらざらしていると通気性が増し吸着力は強くなりますが、空気漏れにより吸着力が大幅に低下します。細かいものであれば多孔質面全体をカバーしない部分吸着が可能で、薄いワークも吸着可能です。

製品データ

ポーラスセラミックチャック
多孔質材料
アルミナセラミック 標準仕様。加工精度、細孔均一性、コストパフォーマンスに優れています。
SiC(シリコンカーバイド) 静電気対策用(体積抵抗率:10 7Ω cm)
SUS(ステンレス) 多孔質導体
樹脂 吸着作業へのダメージが少ない軟質素材
多孔質の細孔径
2μm~230μm対応 代表的な例は、55μm(標準)、120μm、10μm、2μmです。表面がざらざらしていると通気性が増し吸着力は強くなりますが、空気漏れにより吸着力が大幅に低下します。細かいものであれば多孔質面全体をカバーしない部分吸着が可能で、薄いワークも吸着可能です。
アルミナセラミックポーラスのみ選択可能です。黒(標準)、白、紺、青、茶など
本体材質
SUS(ステンレス) 高剛性・高精度加工が可能です。コストパフォーマンスに優れています。
代表例:SUS303、SUS430、SUS440Cなど
アルミニウム 軽量化が可能です。代表例:A5052、A5056、A6061、A7075など
セラミック 軽量で高精度加工が可能。代表例:アルミナセラミックス、SiC。
ボディ表面処理
  • 各種アルマイト処理
  • フッ素樹脂コーティング
  • 低温黒色クロム処理
  • 無電解ニッケルめっき
丸型 φ5mm~φ500mm
角型 □5mm~□500mm
※ 吸着ワークの形状や仕様に合わせて都度カスタマイズが可能です。ご希望の形状・デザイン・図面のイメージをもとにご提案いたします。
応用分野
半導体 ボンディング、ダイシング、テープマウント、研磨など
LED スクリーン印刷、製紙、塗布検査、画像測定、インクジェット印刷など
食べ物 食品の吸着搬送、食品包装、食品噴霧など
その他の製造 金属加工、マシニング、レーザー加工など